文档类型
文章
出版日期
10 - 2016
出版来源
国际期刊的电化学
卷号
2016年
第一页
2935035
出版商
Hindawi
石头
2090 - 3537
文摘
多孔金属和合金,如通过电化学脱合金制造的,感兴趣的各种能源的应用,从他们的潜力增强的催化行为作为pseudocapacitor的高表面积的支持材料。这里,镀层的电化学脱合金过程探索二进制尼科和三元NiCoCu薄膜。的四种不同金属比率、电影dealloyed使用线性扫描伏安法各种势为了了解这部电影的进化的线性扫描。电化学电容、扫描电子显微镜和能量色散x射线光谱被用来检查每个样品的结构和组成之前和之后执行线性扫描伏安法。尼科电影,脱合金成分但却导致几乎没有变化导致电容增加,更发生在更高的线性扫描电位增加,表明材料的去除的电影。脱合金也导致的外观大毛孔表面的高镍百分比尼科电影,而低镍百分比尼科电影几乎没有可观察到的变化形态。NiCoCu电影,铜几乎完全消除线性扫描电位大于0.5 V和Ag / AgCl。线性扫描删除大Cu-rich树突的电影,同时也导致测量电容增加。
关键字
脱合金,尼科NiCoCu,线性扫描伏安法
建议引用
存储库的引用:Peecher,本杰明和汉普顿,詹妮弗·R。,"Dealloying Behavior of NiCo and NiCoCu Thin Films" (2016).教师的出版物。1426年论文。
https://digitalcommons.www.icarseries.com/faculty_publications/1426
发表在:国际期刊的电化学体积2016年10月1日,2016年,页2935035 -。版权©2016 Hindawi。
